―新研發的冷場電子槍，分辨率更高，穩定性更強―
采用日立高新技術公司(社長：久田 真佐男/以下簡稱日立高新)全新開發的冷場電子槍，實現超高分辨率下觀察的同時，穩定的束流亦可滿足長時間下的分析需求。新型冷場發射掃描電鏡(FE-SEM)SU8200系列中，有SU8220、SU8230、SU8240三款機型，將從5月20日開始發售。
掃描電鏡廣泛應用于納米技術，半導體及電子產品，碳材料，生物及制藥等領域。比如說，作為支撐新一代先進科學發展的核心技術，鋰電池和燃料電池領域的碳材料和高分子材料，高效催化劑等的材料研究，正在全球范圍內進行著。由于這些材料所具有的細微結構，所以電子顯微鏡不僅要有超高的分辨本領，還要具備在電子束損傷較小的低加速電壓下的觀察能力以及高靈敏度的元素分析能力，與此同時更要有良好的穩定性和可靠性。
這次開始發售的SU8200系列，色差更小，更適合于低加速電壓下的高分辨率觀察。安裝了全新冷場電子槍。該電子槍的主要特點為，利用空氣分子付著在燈絲表面以前的這段時間，使燈絲處于長時間穩定狀態，實現發射電流穩定、高亮度的觀察。正是因為這些，即使在低加速電壓下，也能獲得大束流，高亮度，優秀的信噪比，良好的穩定性和可靠性。還有，新型冷場電子槍配合各個能譜廠家的大口徑高靈敏度的X射線探頭，即便是在低加速電壓下也可做高空間分辨率的能譜分析(元素分析)。
另外，在觀察性能方面，通過提高馬達臺的抗震動能力和光路的優化將最高分辨率提高了20%(與前代機型SU8000系列相比)，在加速電壓15KV時達到1.0nm，在著陸電壓1KV時達到1.1nm。
SU8200系列，根據樣品大小及觀察目的，使用不同的馬達臺和樣品倉，共三種機型。
【主要特點】
新研發的冷場電子槍
•利用電子槍轟擊后的高亮度穩定期，高分辨觀察和分析兼顧
•大幅提高分辨率(1.1nm/1kV、0.8nm/15kV)
•減輕污染的高真空樣品倉
•通過頂部過濾器(選配項)實現多種材料對比度可視化
【主要參數】
| SU8220 | SU8230 | SU8240 | ||
| 二次電子分辨率(*1) | 0.8 nm (加速電壓15kV, WD=4mm, 放大倍率270 kx) 1.1 nm (著陸電壓1kV, WD=1.5mm, 放大倍率200 kx)(*2) | |||
| 著陸電壓 | 0.01-30 kV | |||
| 放大倍率 | 20-2,000x(*3) | |||
| 馬達臺控制 | 5軸 | 5軸 | 高精度5軸(*4) | |
| 可動范圍 | X | 0 - 50 mm | 0 - 110 mm | 0 - 110 mm |
| Y | 0 - 50 mm | 0 - 110 mm | 0 - 80 mm | |
| R | 360° | |||
| Z | 1.5 - 30 mm | 1.5 - 40 mm | 1.5 - 40 mm | |
| T | -5 - 70° | |||
| 重復精度 | 小于±0.5µm | |||
*1: 用本公司樣品拍的SEM像測量最小顆粒間的夾縫
*2: 使用減速模式觀察
*3: 以127mm×95mm（4X5照片尺寸）為基準的顯示倍率
*4: Regulus®（REGULated Ultra Stable：日立高新生產的高性能馬達臺）是日立高新技術公司在日本的注冊商標.
