產品介紹
薄膜制備及特性測量系列教學實驗儀器是北京科技大學應用科學學院物理系教師將科研儀器向教學儀器轉化的成果，適用于高等院校教學實驗用，是集科研、演示、教學于一體的多功能實驗儀器，是國家專利產品，并在國內首次被應用于大學工科物理和理科物理實驗教學。本系列實驗儀器既適用于實驗教學也可用于科研開發。特別是在物理實驗教學上，用其編排的實驗內容豐富新穎、適用面廣、擴展性強。使學生親身感受到物理實驗在當今高科技中的應用，同時培養學生的科學素質和實驗技能。
本實驗儀器和實驗內容已通過國家工科基礎教程教學基地驗收并受到專家們的一致好評；并通過了教育部科學技術成果鑒定，在2004年在第三屆全國高校物理實驗教學儀器評比中榮獲一等獎。
薄膜生長過程原位動態特性監測教學實驗裝置
薄膜生長過程原位動態特性監測儀采用只留濺射法制備薄膜，在鍍膜過程中通過對薄膜電阻的動態監測，觀察薄膜生長的物理過程。可以在背景真空度約2Pa左右的條件下，完成離子濺射鍍膜及金屬薄膜生長過程原位動態特性的監測實驗。還可作為掃描電鏡樣品鍍膜及金屬電極鍍膜基本設備。同時，若適用在襯底基片上預先鍍制的低電阻測量四接頭電極并接通恒流源，便可利用數字電表在鍍膜過程中，瞬態、原位測量薄膜的導通電壓、電阻阻值隨沉積時間的變化規律，或通過計算機進行檢測信號的自動采樣、瞬態監測于數據處理。由實驗結果可以清楚地觀察到薄膜形成過程中，隨著薄膜成核、網狀導通、薄膜厚度的增加等變化，其電壓和電阻值與沉積時間的關系，通過宏觀物理量的變化反映出微觀薄膜物理性能與薄膜生長過程的對應關系。
該儀器具有體積小、實驗現象明顯直觀、操作簡單方便、性能穩定、實驗周期短等特點，做到了鍍膜儀器的低成本化，集教學科研為一體。
用途：
（1） 動態監測濺射鍍膜過程中基片上兩電極間電壓變化（反映出薄膜生長的規律）；
（2） 動態監測金屬薄膜電阻隨鍍膜時間的變化；
（3） 制備金屬薄膜（如金銀薄膜等）；
（4） 制作掃描電子顯微鏡樣品鍍覆導電膜；
儀器組成：
薄膜生長過程原位動態特性監測教學實驗裝置由真空鍍膜設備、精密直流電源及直流數字電壓表和直流數字電流表三部分組成。
1、 真空鍍膜設備（包括直流濺射儀、機械泵）
由真空控制（真空度約2Pa左右）、離子濺射及測量三部分組成。
2、 精密直流電源
輸出電壓0~30V、輸出電流0~2A在范圍內可調。
3、 直流數字電壓表及直流數字電流表