半導體濕制成設(shè)備又名濕法設(shè)備，Wet Station，半導體清洗設(shè)備。是應(yīng)用于半導體清洗方面的設(shè)備。

半導體濕制成設(shè)備（Wet Station）為美國原裝濕法設(shè)備。主要代表半導體清洗設(shè)備：WS-1000濕法設(shè)備，WS-1000m濕法設(shè)備。Mycro濕法設(shè)備有標準型和更好的濕法設(shè)備，標準型Mycro濕法設(shè)備適用于一般要求，更好的Mycro濕法設(shè)備具有優(yōu)良性能，滿足客戶對半導體清洗設(shè)備的更高要求。半導體清洗設(shè)備有不同型號，請根據(jù)具體需要選擇半導體清洗設(shè)備。推薦的半導體清洗設(shè)備：WS-1000m濕法設(shè)備

WS-1000濕法設(shè)備特點：
◆全聚丙烯構(gòu)造（見下文的自滅火功能）
◆可兼容安裝任何Laurell 旋涂機
◆有排孔的濕隔層（易于拆除）
◆潮濕的空間
◆標準規(guī)格的排氣空間
◆被熱水器，水泵，容器等隔離的組件/容器

可以根據(jù)要求采用更高級的材料的濕法設(shè)備
更好的半導體清洗設(shè)備
WS-1000-CP5 符合SEMI S93標準應(yīng)用在消防安全和潔凈空間等領(lǐng)域。CP5符合UL94 V-O 火災分類標準。它具有優(yōu)良的平衡的物理性能，耐化學藥品性和耐火性。
最佳的
WS-1000-CP7-D的材料阻燃特性符合最嚴格的FMRC 4910測試標準，滿足多方面條件下的難燃性，自熄特點和徹底燃燒。這種先進的材料也達到或超過產(chǎn)生低煙和最小毒副產(chǎn)品的檢測標準。

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