濕法設備又名半導體濕制成設備，Wet Station，半導體清洗設備。是應用于半導體清洗方面的設備。
WS-1000濕法設備產于美國，是原裝的半導體濕制成設備。

半導體濕制成設備廠家介紹：
美國Laurell,Inc總部位于美國賓夕法尼亞，成立于1985年，是一家專業提供化工半導體材料清潔涂敷處理等特殊工藝的公司。公司擁有WS-1000-CP5/ WS-1000-CP7-D等各類半導體清洗設備，目前客戶已遍布全球。主要半導體濕制成設備有以WS-1000濕法設備和WS-1000m濕法設備為代表的多種半導體清洗設備。

WS-1000濕法設備有標準型和更優的濕法設備，標準型濕法設備使用于一般要求，更好的濕法設備具有優良性能，滿足客戶對半導體清洗設備的更高要求。半導體清洗設備有不同型號，請根據具體需要選擇半導體清洗設備。推薦的半導體清洗設備：WS-1000m濕法設備，

WS-1000濕法設備的一般特性：
◆全白色聚丙烯構造濕法設備
◆可內置任何Laurell公司的旋涂機
◆排放簡便的入氮口和DI噴頭
◆如果需要更小尺寸有微型的供選擇
WS-1000濕法設備一般信息：
Laurell公司的WS-1000系列旋轉處理濕法設備可以被配置成測試模塊構造，安裝簡便，易于拆卸，更便于操作者控制。典型的WS-1000處理過程包括（但不限于）：
◆涂敷
◆蝕刻
◆開發-水/溶劑
◆清洗-水/溶劑
◆確認，硫酸/雙氧水（原樣混合）
◆確認，HBr
◆溫控開發
◆沖洗/烘干

WS-1000濕法設備特點：
全聚丙烯構造（見下文的自滅火功能）
可兼容安裝任何Laurell 旋涂機
有排孔的濕隔層（易于拆除）
潮濕的空間
標準規格的排氣空間
被熱水器，水泵，容器等隔離的組件/容器

WS-1000濕法設備選項：
◆排氣聯鎖控制處理器（一些型號是標準的）
◆加熱和原材料攪拌
◆抵抗力沖洗
◆排水轉向裝置
◆真空負荷棒
◆晶片盒座
◆檢漏
◆輕塔

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